기타장비
기자재명 | 이온 초점빔 주사전자현미경 시스템 (FIB-SEM) (Focused Ion Beam Scanning Electron Microscope System) |
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사진 | |
모델명 | LYRA3 GMH |
분류 | 물리화학분석장비 |
제조국 | 체코 |
제조사 | TESCAN |
캠퍼스 | 천안캠퍼스 |
설치장소 | 천안 6공학관 102호 |
상태 | 신청가능 |
분석료 | * 여러 장비 담당으로 반드시 연구원과 전화상담 및 일정 확인 후 기기 예약 요망. (예약현황과 다를 수 있음) * 문의사항 : somber@kongju.ac.kr * 상담한 기기와 연락처, 담당자이름을 정확히 확인후 예약해주시기 바랍니다. (사전상담없이 기기 잘못 선택된 의뢰는 반려 처리되오니 양해바랍니다.) * 당일 취소는 예약시간 청구되오니 숙지 부탁드립니다. 1. Etching, Deposition - 교내 : 100,000원/시간(SEM측정 별도) - 교외 : 200,000원/시간(SEM측정 별도) 2. TEM Sample Preparation [ 시료당 3시간기준, 초과 시 50,000원/시간 추가] - 교내 : 250,000원/시료 - 교외 : 450,000원/시료 |
원리 및 특징 | - 가속화된 전자빔을 시료 표면에 주사하였을 때 발생되는 2차 전자와 후방산란전자를 수집, 영상화시켜 미세영역 관찰 및 물질 조성 확인하는 전자현미경 기능을 기본적으로 장착 - 시료 표면에 FIB(Focused Ion Beam; Ga Ion Source)을 주사하여 미세 영역을 etching, milling 할 수 있고 cross section 면에 대한 SEM image를 관찰 할 수 있는 Gun을 장착한 시스템 - 추가적으로 TEM 관찰을 위한 매우 얇은 단면(lamella) 시료 제작을 위한 전처리용으로도 활용 가능 |
응용분야 | - 금속 및 세라믹의 파단면 형태, 반도체 증착 두께 측정 - 고분자 표면 형상, 건조된 생물조직 형태 관찰 - 저가속 전압에서 고분해능 관찰 가능 - 초미세가공 샘플의 구조 관찰 및 평가 - Etching, Milling, Polishing 하면서 cross section 시료 관찰 (가능 시료 제한 있음.) - TEM lamella 시료 제작 (가능 시료 제한 있음.) |
규격 | - 제작사: TESCAN - Model : LYRA3 GMH ※ FE-SEM - Resolution : 1.2nm(SE at 30kV), 2.0nm(BSE at 1kV) - Magnification : 3 ~ 1,000,000 - Electron gun : High Brightness Schottky Emitter - Accelerating voltage : 0.2 ~ 30kV - GIS : 5 port (Pt, W, SiOx, H2O, XeF2) ※ FIB Ion Optics - Resolution : <2.5nm(at 30kV) - Ga Liquid Metal Ion Source - Probe current : 1pA to 50nA ※ EDS: EDAX사 - Resolution : 126eV (LN2 free SDD type) |